GL SR300 300mm步進式納米壓印光刻/拼版設備 參考價：面議
GL SR300 300mm步進式納米壓印光刻/拼版設備是一種步進式紫外納米壓印設備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu)，還可以用于將小面...
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設備是一種專門為大學、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設計，功能強大的多功能研發(fā)型納米壓印光刻設備。通過簡單的夾具更換，可以實現(xiàn)旋涂壓印...
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設備是一種專門為晶圓級光學加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全幅紫外納米壓印設備，可在200...
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設備是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設備，標配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuu...
GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線 參考價：面議
GL300 Cluster全自動納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動納米壓印生產(chǎn)線，集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標配天仁微...
UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設備 參考價：面議
UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設備是一種專門為大學、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設計，操作簡單、功能強大的臺面型納米壓印光刻設備。可實現(xiàn)4英寸...
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設備產(chǎn)能可大于40片每小時，適合DOE、AR/VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、...
GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。
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